分享:電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定高純 五氧化二鉭中20種痕量雜質(zhì)元素
劉 婷,白煥煥,雷小燕,羅 策,李 劍
(寶鈦集團有限公司,寶雞721014)
摘 要:將五氧化二鉭樣品在105℃下烘干2h,冷卻至室溫后,取樣品0.5000g,加入氫氟酸5mL,硝酸2.5mL,按程序升溫微波消解,用水定重至50.0g。應(yīng)用動態(tài)反應(yīng)池技術(shù)消除多原子離子對鐵元素的干擾,甲烷反應(yīng)氣流量為0.2mL·min-1,Rpq為0.80。以標準加入法補償基體效應(yīng)制作標準曲線,采用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定20種雜質(zhì)元素的含量。各元素的檢出限(3狊)在0.009~0.53μg·g-1之間,用標準加入法做回收試驗,測得回收率在90.0%~116%之間,測定值的相對標準偏差(N=11)在1.8%~17%之間。
關(guān)鍵詞:電感耦合等離子體質(zhì)譜法;動態(tài)反應(yīng)池;五氧化二鉭;雜質(zhì)元素
中圖分類號:O657.63 文獻標志碼:A 文章編號:10014020(2017)04045105
ICP-MS Determination of 20 Trace lmpurity Elments in
High Purity Tantalum Pentoxide
LIU Ting BAI Huan-huan LEI Xiao-yan,LUO Ce,LI Jian
Abstract:Tantalumpentoxidesamplewasdriedfor2hat105℃.Aftercoolingtoroomtemperature,the
sample(0.5000g)wastreatedwith5mLofHFand2.5mLofHNO3inamicrowavedigestorunderprogrammed
temperatureelevation.Waterwasaddedtothedigestedsolutiontomakethemassofsolutionattainedto50.0g.
ThesolutionwasusedforICPMSdeterminationofthe20impurityelements.Dynamicreactioncelltechnologywas
adoptedtoeliminatetheinterferencesofpolyatomicionstoFe,withaflowrateof0.2mL·min-1forCH4reaction
gasandRpqof0.80,andthestandardadditionmethodwasusedtocorrectthematrixeffectinpreparationof
standardcurves.Valuesofdetectionlimits(3狊)foundforthe20elementswereintherangeof0.009-0.53μg·
g-1.Testforrecoverywasmadebystandardadditionmethod,givingresultsintherangeof90.0%-116%,with
RSDs(N=11)rangedfrom1.8%to17%.
Keywords :ICPMS;Dynamicreactioncell;Tantalumpentoxide;Impurityelements
高純五氧化二鉭是生產(chǎn)晶書鉭的原料,也可作為光學玻璃改性劑用以制造高折射率的透鏡,在電子、化工等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。市場對高純五氧化二鉭的需求日益劇增,純度要求也越來越高。因此在使用之前,必須對其雜質(zhì)成分進行準確測定。高純五氧化二鉭產(chǎn)品標準為 YS/T547-2007[1],其化學成分仲裁 方 法 按 GB/T15076-2008《鉭鈮化學分析方法》進行[2]。其中雜質(zhì)元素的測定共有五個分標準,但仍有砷、鉍、鈷、鎂、釩、硼等元素沒有分析方法,上述試驗方法已經(jīng)無法滿足現(xiàn)有產(chǎn)品標準中元素的測定要求。隨著現(xiàn)有儀器的發(fā)展,對高純金屬中痕量元素的測定,電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICPMS)具有靈敏度高、檢出限低等優(yōu)勢,成為現(xiàn)有分析痕量及超痕量元素最有力的技術(shù).之一[39]。目前,文獻中報道關(guān)于電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定鉭及鉭的氧化物的分析方法已有不少,如采用內(nèi)標校正基體效應(yīng)ICPMS測定超高純鉭鈮及其化合物中痕量雜質(zhì)元素[10],但對受多原子離子干擾的鐵元素并未進行測定;通過屏蔽矩冷等離子體技術(shù)來減小多原子離子干擾并運用標準加入法補償基體效應(yīng),采用電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定高純五氧化二鉭中28種雜質(zhì)元素[11],均取得滿意的結(jié)果。
本工作建立了不分離基體,采用標準加入法補償基體效應(yīng),電感耦合等離子體質(zhì)譜法同時測定高純五氧化二鉭樣品中20種痕量雜質(zhì)元素。試驗中電感耦合等離子體質(zhì)譜儀采用先進的動態(tài)反應(yīng)池(DRC)技術(shù)[1215],以甲烷氣體為反應(yīng)氣,有效降低了40Ar16O 多原子離子對56Fe的干擾,以提高測定結(jié)果的準確性。
1 試驗部分
1.1 儀器與試劑
ELANDRCe型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀;BERGHOF MWS3 Controller 型 微 波 消 解 儀;
MilliQ型超純水機。鋁、砷、硼、鉍、鈷、鉻、銅、鎂、錳、鉬、鈉、鐵、鈮、鎳、鉛、錫、鈦、釩、鎢、鋯混合標準儲備溶液:質(zhì)量濃度均為1000mg·L-1,使用前用氫氟酸硝酸水(1+1+98)混合液稀釋至1.0mg·L-1。鎂、銦、鋇、鈰、鈾、鈹、鈷、鉛、銠混合標準溶液:質(zhì)量濃度均為10μg·L-1,介質(zhì)為硝酸(1+99)溶液。氫氟酸、硝酸均為BVⅢ級超凈 高純試劑;試驗用水為超純水(電阻率為18.2MΩ·cm)。
1.2 儀器工作條件
1)微波消解條件 微波消解功率1500W,壓力5MPa,3min升溫至150℃,保持5min;3min
升溫至175℃,保持40min;3min降溫至130℃,保持10min;1min降溫至50℃,保持1min。
2)ICPMS條件 反應(yīng)氣為甲烷氣體,流量0.2mL·min-1,低質(zhì)量截取閾值(Rpq)為0.80,射
頻功率1100W;等離子體流量15L·min-1,輔助氣流量1.2L·min-1,霧化氣流量0.83L·min-1;氧化物 (CeO+/Ce+ )水 平 0.017,雙 電 荷 (Ba2+/Ba+ )水 平 0.012;靈 敏 度 指 標:銦 信 號 強 度 為128690cps,背景水平220+ 為1.00cps;鎳采樣錐孔徑1.1mm,鎳截取錐孔徑0.9mm;檢測器為雙模模式,數(shù)據(jù)采集為跳峰模式。
1.3 試驗方法
將試樣在105℃下烘干(約2h),待放置室溫后,稱取五氧化二鉭樣品0.5000g置于微波消解罐中,依次加入氫氟酸5mL,硝酸2.5mL,旋緊密封,按微波消解程序運行。微波消解至溶液清亮,少量多次轉(zhuǎn)入塑料瓶中,用水稀釋至50.0g,混勻。將分析試液分取10.0g于5個100mL塑料瓶中,分別加 入 1.0 mg·L-1 混 合 標 準 溶 液 0,100.0,300.0,500.0,1000.0μL,用水稀釋至100mL,混勻待用。隨同試料做空白試驗,作為試劑空白。按儀器工作條件對試劑空白溶液和試樣溶液進行測定。
2 結(jié)果與討論
2.1 儀器工作條件的選擇
2.1.1 霧化氣流量
試驗考察了霧化氣流量在0.75~0.90L·min-1之間(以0.01L·min-1遞增)時銦的信號強度變化情況。當霧化氣流量增加至0.83L·min-1時,信號強度最大,為128690cps,隨后信號強度呈遞減趨勢。銦強度最大時,氧化物(CeO+/Ce+ )水平為0.017,雙電荷(Ba2+/Ba+ )水平為0.012,背景水平220+ 為1.00cps,試驗性能最佳。試驗選擇霧化氣流量為0.83L·min-1。
2.1.2 離子透鏡電壓參數(shù)
試驗考察了離子透鏡電壓在4.00~12.00V(以0.25V遞增)時鈹、鈷、銦等3個代表低、中、高
等3個階段質(zhì)量數(shù)的元素對應(yīng)的透鏡電壓情況,見表1。
2.2 同位素的選擇
在電感耦合等離子體質(zhì)譜法同位素的選擇中主要考慮到分析元素產(chǎn)生的質(zhì)譜干擾,主要有同質(zhì)異位素、多原子離子、氧化物、雙電荷干擾,這些干擾嚴重影響測定結(jié)果的準確性,應(yīng)盡可能排除。選擇同位素時既要考慮選豐度大的同位素,又要避免同質(zhì)異位素干擾,還應(yīng)考慮到潛在干擾。其中氧化物、雙電荷干 擾 可 以 通 過 試 驗 前 儀 器 的 調(diào) 諧 優(yōu) 化,使
CeO+/Ce+ ≤3%,Ba2+/Ba+ ≤3%。然而多原子離子 干 擾 如56 Fe 和57 Fe 的 測 定 受 到 40Ar16O、40Ca16O、40Ar16O1H、40Ca16O1H 的干擾,52Cr和53Cr分別受到40Ar12C和35Cl16O1H 的干擾,可通過選擇合理的試劑來消除。如75As受40Ar35Cl的干擾,溶劑不宜采用鹽酸,也可通過反應(yīng)池技術(shù)使40Ar16O等多原子離子數(shù)量顯著降低,提高測定的靈敏度,此
外基體氧化物離子也應(yīng)力求避免 TaO+ 重疊干擾。試驗過程中被測元素不受基體氧化物的干擾,共存元素間也互相不產(chǎn)生干擾,同時所用試劑也不產(chǎn)生多原子 離 子 干 擾,優(yōu) 化 后 的 最 佳 質(zhì) 量 數(shù) 結(jié) 果 見表2。
2.3 動態(tài)反應(yīng)池參數(shù)的選擇
常用的消除質(zhì)譜干擾的辦法有測定前分離基體、采用儀器的干擾校正方程、優(yōu)化儀器參數(shù)屏蔽矩冷等離子體技術(shù)以及動態(tài)反應(yīng)池技術(shù)。儀器自帶的動態(tài)反應(yīng)池技術(shù)可以減?。矗埃粒颍保叮?多原子離子對56Fe元素的干擾。試驗采用甲烷氣體作為反應(yīng)氣體,反應(yīng)原理為 ArO+ 失去電荷分解為中性氬原子和氧原子,無法進入四極桿,則鐵受到的干擾即被消除,見式(1):
CH4 +ArO+ →CH4++Ar+O (1)為了達到儀器的最佳檢出限,儀器需要優(yōu)化的反應(yīng)池參數(shù)有反應(yīng)氣流量和Rpq。試樣溶液中加入10μg·L-1鐵標準溶液,試驗考察了甲烷氣流量在0.1~1.0mL·min-1時對鐵元素的影響,同時進行Rpq的調(diào)節(jié),設(shè)定范圍在0.45~0.80之間。在反應(yīng)池模式下,通過調(diào)節(jié) Rpq大小控制反應(yīng)程度,還可以有效消除反應(yīng)副產(chǎn)物,避免二次產(chǎn)生的干擾分子離子對鐵元素的影響,提高了反應(yīng)效率。試驗中選定甲烷氣流量為0.2mL·min-1,Rpq與鐵元素產(chǎn)生的信號強度關(guān)系見圖1
由圖1可知:隨 Rpq的遞增,鐵元素的信號強度急劇降低,說明Rpq的大小對鐵信號強度影響較大。試驗選擇Rpq為0.80,此時鐵的背景等效質(zhì)量濃度為2.56μg·L-1,信號強度為2374cps。
2.4 基體效應(yīng)的影響
合等離子體質(zhì)譜法測定中基體效應(yīng)是指基體元素在測定過程中使待測元素信號強度增強或抑制的非譜線干擾,試驗發(fā)現(xiàn)基體氧化鉭對被測元素有抑制作用。消除基體氧化鉭的方式有內(nèi)標校正法[10],但內(nèi)標校正法對內(nèi)標元素的選擇要求高且并不能完全消除基體效應(yīng)。文獻[11]研究發(fā)現(xiàn)分析元素的回收率隨基體量的增加而顯著降低,且對輕質(zhì)量元素的影響更加明顯,采用標準加入法可消除基體影響。五氧化二鉭的熔沸點高,鍵能較強,很容易在樣品錐口沉積,從而導致錐口堵塞,降低分析測試的穩(wěn)定性。同時考慮到大多數(shù)被測元素的靈敏度,試驗選擇五氧化二鉭基體的質(zhì)量濃度為1.000g·L-1,采用標準加入法消除基體效應(yīng)。
2.5 標準曲線及檢出限
五氧化二鉭中20種雜質(zhì)元素的線性范圍、線性回歸方程及相關(guān)系數(shù)見表3。采用純度較高的五氧化二鉭試樣作為基體空白,其質(zhì)量濃度為1.000g·L-1。對空白溶液測定11次,以3倍的空白溶液測定值的標準偏差計算檢出限(3狊),以10倍的標準偏差計算測定下限(10狊),結(jié)果見表3。由表3可知:各雜質(zhì)元素的檢出限在0.009~0.53μg·g-1之間,測定下限在0.032~1.78μg·g-1之間,線性相關(guān)系數(shù)大于0.9991。
2.6 精密度和回收試驗稱?。撤菸逖趸g試樣0.5000g于消解罐內(nèi),分別加入0,0.05,0.25,0.50,2.50mL混合標準溶液,按試驗方法測定,每份試液平行測定11次,計算回收率和測定值的相對標準偏差(RSD),結(jié)果見表4。
由表 4 可 知:20 種 元 素 的 加 標 回 收 率 在90.0%~116% 之間,測定值的 RSD 在 1.8% ~17%之間。本工作采用氫氟酸和硝酸混合酸微波消解試樣,建立了電感耦合等離子體質(zhì)譜法同時測定五氧化二鉭中20種雜質(zhì)元素,優(yōu)化了儀器工作參數(shù),使用甲烷氣體為反應(yīng)氣體降低40Ar16O 多原子離子對56Fe元素的干擾,采用標準加入法校正、補償基體效應(yīng)。方法的準確度、精密度高,測定周期短,滿足樣品的日常測定需求。
(文章來源:材料與測試網(wǎng)-理化檢驗-化學分冊)