分享:電解雙噴中心復(fù)合響應(yīng)曲面試驗(yàn)方法
制備透射電鏡試樣的方法包括電解雙噴、離子減薄和聚焦離子束等,試樣制備的質(zhì)量對(duì)研究材料的顯微組織至關(guān)重要[1-2]。采用電解雙噴法制備金屬材料的透射電鏡試樣,該方法的優(yōu)點(diǎn)是制樣效率高和成本低。目前,國內(nèi)外的研究方向主要集中在透射電鏡試樣制備后的顯微組織表征與試驗(yàn)分析,關(guān)于試樣制備工藝流程的系統(tǒng)性研究較少[3-5]。筆者利用電解雙噴儀和場發(fā)射透射電鏡,設(shè)計(jì)了透射電鏡的試樣制備工藝試驗(yàn),分析了電解雙噴試驗(yàn)工藝參數(shù)對(duì)制樣結(jié)果的影響,以縮短試驗(yàn)周期和提高測(cè)試效率。
1. 電解雙噴的試驗(yàn)設(shè)計(jì)(DOE)
DOE試驗(yàn)設(shè)計(jì)是研究多個(gè)因子變量與響應(yīng)變量關(guān)系的有效方法,圖1為電解雙噴的DOE試驗(yàn)設(shè)計(jì)與分析流程。流程主要包括透射電鏡試樣預(yù)制、選擇試驗(yàn)因子和水平、正確的試驗(yàn)設(shè)計(jì)方法以及試驗(yàn)?zāi)P偷尿?yàn)證分析。通過以上4個(gè)步驟的試驗(yàn)設(shè)計(jì),可以對(duì)電解雙噴的試樣制備工藝進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化研究,形成具有實(shí)際參考價(jià)值的透射電鏡制樣流程,提供應(yīng)用測(cè)試分析服務(wù)案例。
2. 電解雙噴的中心復(fù)合響應(yīng)曲面方法
2.1 試樣預(yù)制備
根據(jù)JY/T 0581—2020 《透射電子顯微鏡分析方法通則》,選擇DC56D+Z鋼為試驗(yàn)對(duì)象,在電解雙噴試驗(yàn)之前進(jìn)行試樣預(yù)制。采用線切割方法將試樣制成尺寸(長度×寬度×高度)為50 mm×50 mm×1 mm的試樣,依次用粒度為300,600,1 000目(1目=25.4 mm)的砂紙磨制試樣,用丙酮清洗試樣,然后進(jìn)行沖片處理,使試樣的直徑為3 mm、厚度小于100 μm。利用電解雙噴方法制備透射電鏡試樣。
2.2 因子和水平選擇
在電解雙噴試驗(yàn)中,選擇不同的因子會(huì)影響制備結(jié)果的主要參數(shù)。影響電解雙噴試樣制備質(zhì)量的因素主要包括電解液的成分和濃度、雙噴溫度、雙噴電壓、光止值、雙噴液流速和試樣厚度等。電解雙噴液選用5%(體積分?jǐn)?shù),下同)HClO4+95%C2H5OH溶液。將小圓片試樣固定于夾具中,并將夾具置于電解雙噴臺(tái)上,利用設(shè)備特有的預(yù)掃描功能,可獲得雙噴電壓的推薦值。將雙噴電壓的水平控制在推薦掃描值及其附近值,包括25,30,35,40,45 V。為了研究光止值對(duì)電解雙噴試驗(yàn)結(jié)果的影響,電解雙噴的光止值水平包括25,50,75,100,125,光止值為設(shè)備內(nèi)置相對(duì)值,無單位。不同電解雙噴溫度下的雙噴液黏滯性不同,而流速的選擇與此密切相關(guān),選擇在某一電解雙噴液溫度(-25 ℃)條件下,分析不同電解雙噴液的流速對(duì)試樣制備結(jié)果的影響。將試樣夾具從電解雙噴臺(tái)中取出,啟動(dòng)循環(huán)泵,并觀察噴口處的兩束液柱。流速的水平選擇依據(jù)兩束液柱剛好接觸時(shí)對(duì)應(yīng)的流速及其附近值,分別設(shè)置為12.5,15,17.5,20,22.5,該值為設(shè)備內(nèi)置相對(duì)值,無單位。在滿足試樣厚度小于100 μm的情況下,選擇試樣厚度為30,40,50,60,70 μm。電解雙噴設(shè)備顯示的試驗(yàn)結(jié)果參數(shù)包括拋光時(shí)間和拋光電流,以此作為響應(yīng)變量依據(jù),來設(shè)計(jì)中心復(fù)合響應(yīng)曲面試驗(yàn)。
2.3 中心復(fù)合響應(yīng)曲面設(shè)計(jì)方法
響應(yīng)曲面試驗(yàn)方法中最常用的是中心復(fù)合設(shè)計(jì),表1為DC56D+Z鋼的電解雙噴中心復(fù)合響應(yīng)曲面試驗(yàn)設(shè)計(jì)排列?;谠囼?yàn)因子和水平,試驗(yàn)時(shí)電解雙噴的工藝參數(shù)要根據(jù)設(shè)備精度設(shè)定與水平最接近值。試驗(yàn)分析模型既包括因子主效應(yīng)和交互效應(yīng)的影響,又包括彎曲效應(yīng)的影響。
標(biāo)準(zhǔn)序 | 運(yùn)行序 | 試驗(yàn)點(diǎn)類型 | 區(qū)組 | 雙噴電壓/V | 光止值 | 流速 | 試樣厚度/μm |
---|---|---|---|---|---|---|---|
11 | 1 | 1 | 1 | 30 | 100 | 15.0 | 60 |
6 | 2 | 1 | 1 | 40 | 50 | 20.0 | 40 |
9 | 3 | 1 | 1 | 30 | 50 | 15.0 | 60 |
13 | 4 | 1 | 1 | 30 | 50 | 20.0 | 60 |
15 | 5 | 1 | 1 | 30 | 100 | 20.0 | 60 |
7 | 6 | 1 | 1 | 30 | 100 | 20.0 | 40 |
1 | 7 | 1 | 1 | 30 | 50 | 15.0 | 40 |
12 | 8 | 1 | 1 | 40 | 100 | 15.0 | 60 |
29 | 9 | 0 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 50 |
2 | 10 | 1 | 1 | 40 | 50 | 15.0 | 40 |
24 | 11 | -1 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 70 |
3 | 12 | 1 | 1 | 30 | 100 | 15.0 | 40 |
27 | 13 | 0 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 50 |
26 | 14 | 0 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 50 |
5 | 15 | 1 | 1 | 30 | 50 | 20.0 | 40 |
28 | 16 | 0 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 50 |
25 | 17 | 0 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 50 |
19 | 18 | -1 | 1 | 35 | 25 | 17.5 | 50 |
30 | 19 | 0 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 50 |
31 | 20 | 0 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 50 |
21 | 21 | -1 | 1 | 35 | 75 | 12.5 | 50 |
4 | 22 | 1 | 1 | 40 | 100 | 15.0 | 40 |
18 | 23 | -1 | 1 | 45 | 75 | 17.5 | 50 |
8 | 24 | 1 | 1 | 40 | 100 | 20.0 | 40 |
14 | 25 | 1 | 1 | 40 | 50 | 20.0 | 60 |
22 | 26 | -1 | 1 | 35 | 75 | 22.5 | 50 |
16 | 27 | 1 | 1 | 40 | 100 | 20.0 | 60 |
17 | 28 | -1 | 1 | 25 | 75 | 17.5 | 50 |
20 | 29 | -1 | 1 | 35 | 125 | 17.5 | 50 |
10 | 30 | 1 | 1 | 40 | 50 | 15.0 | 60 |
23 | 31 | -1 | 1 | 35 | 75 | 17.5 | 30 |
3. 電解雙噴的響應(yīng)曲面試驗(yàn)結(jié)果
3.1 電解雙噴的試驗(yàn)分析模型
根據(jù)表1安排完成電解雙噴試驗(yàn),對(duì)因子變量和響應(yīng)變量進(jìn)行回歸分析。試樣性質(zhì)差異等因素會(huì)影響試驗(yàn)結(jié)果的誤差,因此需要對(duì)試驗(yàn)分析結(jié)果的異常點(diǎn)至少進(jìn)行3次重復(fù)試驗(yàn),并取其平均值,得到置信度為95%的DC56D+Z鋼電解雙噴試驗(yàn)結(jié)果分析模型。對(duì)拋光時(shí)間和拋光電流的擬合值和實(shí)際值進(jìn)行對(duì)比,并繪制系統(tǒng)散點(diǎn)圖,結(jié)果如圖2所示。由圖2可知:散點(diǎn)圖的響應(yīng)變量擬合值和實(shí)際值基本分布在45°線附近,驗(yàn)證了試驗(yàn)分析模型的準(zhǔn)確性。
為了指導(dǎo)實(shí)際電解雙噴工藝試驗(yàn),在此試驗(yàn)工藝條件的95%預(yù)測(cè)區(qū)間,對(duì)拋光時(shí)間和拋光電流范圍進(jìn)行預(yù)測(cè),結(jié)果如圖3所示。由圖3可知:拋光時(shí)間預(yù)測(cè)為1.6~102.4 s,拋光電流預(yù)測(cè)為23.6~58.8 A,結(jié)果可為電解雙噴的試驗(yàn)工藝提供參考。
3.2 透射電鏡分析
為了驗(yàn)證電解雙噴試驗(yàn)后的試樣制備效果,對(duì)電解雙噴后的DC56D+Z鋼試樣進(jìn)行透射電鏡分析,結(jié)果如圖4所示。由圖4可知:在低倍下可以觀察到試樣薄區(qū)形態(tài),找到試樣薄區(qū)的合適位置,可以在較高倍數(shù)下明顯地分辨出DC56D+Z鋼的晶界特征。
4. 結(jié)論
(1) 選擇DC56D+Z鋼的電解雙噴主要影響因子,包括雙噴電壓、光止值、流速、試樣厚度等,響應(yīng)變量包括拋光時(shí)間和拋光電流。綜合考慮因子的主效應(yīng)、交互效應(yīng)和彎曲效應(yīng)的影響,制定了中心復(fù)合響應(yīng)曲面試驗(yàn)方案。
(2) 通過回歸分析建立了響應(yīng)變量和因子變量的關(guān)系模型,并利用散點(diǎn)圖進(jìn)行試驗(yàn)分析模型檢驗(yàn)。在該試驗(yàn)參數(shù)選擇條件下,對(duì)響應(yīng)變量進(jìn)行了范圍預(yù)測(cè),得到拋光時(shí)間預(yù)測(cè)為1.6~102.4 s,拋光電流預(yù)測(cè)為23.6~58.8 A。在該條件下對(duì)DC56D+Z鋼進(jìn)行透射電鏡分析,可以清晰地分辨出材料的晶界特征。
文章來源——材料與測(cè)試網(wǎng)